美國智庫發布報告警告，西方國家雖成功限制對北京最先進的光刻機出口，中方卻透過舊設備改良工藝，成功生產5納米芯片，引起專家憂心。據《國家利益》周三報導，美國企業研究所指出中國業者借助舊型深紫外光浸沒式設備，透過「多重圖案化」技術，接近最先進製程，達到量產。
報告指出，中芯國際自2022年起即成功利用升級舊設備工藝，量產7奈米芯片，並於去年底證實擁有5奈米量產能力。儘管製造成本較台積電高出四至五成，且多步驟可能導致合格率降低，成本高昂且生產效率不佳。
報告進一步提到，中國企業在2024年購入近90台深紫外光浸沒式光刻機，支持國家芯片基金，預估每年可生產數百萬片先進芯片，成為華為擴展人工智慧芯片的關鍵。極紫外光（EUV）光刻機是印刷最先進半導體芯片所必需，每台機器包含超過10萬個零件，並具有極高要求的鏡面。
為堵住漏洞，《MATCH法案》提出全面禁止向中國銷售前代光刻設備、禁止為已安裝設備提供維修，並將華為、中芯國際列為受限對象。禁止對深紫外光浸沒式光刻設備進行維修將阻礙北京的芯片生產。
報告建議保留對盟友實施管轄條款作為最後手段，避免過度影響企業，同時應保留外交豁免措施。專家指出，若不控制舊設備的銷售與維修，中國未來或將大幅提升先進芯片產能，影響全球人工智慧硬件市場。責任編輯：李沐恩
