根據報導，上海一家國有半導體設備公司已開始量產深紫外光刻機（DUV），這是生產各種芯片所需的關鍵設備。但分析指出，中國技術仍有瓶頸存在，極紫外光刻機（EUV）仍然是一道難以跨越的門檻。
據路透社7月28日報導，有知情人士透露，中國國有企業上海愛晟納電子科技集團已開始量產中國自主研發的DUV。該公司整合了中國多家設備公司的團隊，成為這項國產化計劃的主要推動者。
根據工商資料，上海愛晟納成立於2023年8月，其註冊資本高達70億元人民幣，股東包括上海電氣控股集團及上海國際信託旗下公司，這兩家公司也都是國有企業。
- 知情人士透露，愛晟納已整合了新創公司宇量升和上海微電子裝備（SMEE）的某些團隊。宇量升是華為支持的半導體設備企業，去年已開始測試DUV原型機，被中共政府列為半導體自主研發計劃的重要企業之一。
- 另外，傳言指出，中共也正積極自主研發國產EUV，不過目前仍停留在原型機階段。
專注於科技領域的媒體The Information透露更多內容，指出愛晟納今年計劃生產約5台設備，並計畫在2027年增加至約20台。這些設備預計將交付給中芯國際、華虹半導體以及內存製造商長鑫科技。
由於美國政府的出口管制措施，中國廠商難以取得EUV，因此DUV已成為中國芯片製造商目前能夠取得的最先進光刻設備。
